Στρογγυλός στόχος τιτανίου

Ένας στόχος επίστρωσης είναι μια πηγή διασκορπισμού που διασκορπίζεται σε ένα υπόστρωμα για να σχηματίσει λειτουργικές μεμβράνες με ψεκασμό με μαγνητρόνιο ή άλλα συστήματα επίστρωσης υπό κατάλληλες συνθήκες διεργασίας. Δηλαδή, το υλικό στόχος είναι το υλικό στόχου βομβαρδισμού σωματιδίων ενέργειας φορτίου υψηλής ταχύτητας, που χρησιμοποιείται σε όπλα λέιζερ υψηλής ενέργειας, διαφορετικές πυκνότητες ισχύος, διαφορετικές κυματομορφές εξόδου, διαφορετικά μήκη κύματος λέιζερ και διαφορετική αλληλεπίδραση υλικού στόχου. διαφορετικά φονικά και καταστροφικά αποτελέσματα.

Η κατασκευή στόχων εκτόξευσης τιτανίου περιλαμβάνει προετοιμασία σκόνης πρώτης ύλης, προθέρμανση, θερμή συμπίεση, επεξεργασία και επεξεργασία επιφανειών. Η προετοιμασία των πρώτων υλών είναι το κλειδί για τη διασφάλιση της ποιότητας των στόχων εκτόξευσης τιτανίου. Η προθέρμανση και η εν θερμώ συμπίεση είναι σημαντικά βήματα διαδικασίας για την κατασκευή στόχων εκτόξευσης τιτανίου, μέσω των οποίων λαμβάνονται ομοιόμορφα και πυκνά υλικά για να διασφαλιστούν οι φυσικές ιδιότητες και οι χημικές ιδιότητες των στόχων. Η επεξεργασία περιλαμβάνει κοπή, διαμόρφωση και στίλβωση. Η επιφανειακή επεξεργασία περιλαμβάνει καθαρισμό, παθητικοποίηση, συσκευασία κ.λπ.

Εξοπλισμένο με προηγμένη διαδικασία, η οποία έχει μεγαλύτερη εξυπηρέτηση. Λόγω της υψηλής απόδοσής του, ο στρογγυλός στόχος τιτανίου παίζει σημαντικό ρόλο σε συσκευές διαχωρισμού ημιαγωγών, επίπεδες οθόνες, μεμβράνες ηλεκτροδίων αποθήκευσης, επικάλυψη τεμαχίων εργασίας, βιομηχανία επικάλυψης γυαλιού κ.λπ.

Ο στρογγυλός στόχος τιτανίου έχει ένα ευρύ φάσμα χρήσεων λόγω του μεγάλου κενού ζώνης, της χαμηλής διηλεκτρικής σταθεράς και της σταθερότητας της θερμοκρασίας. Η λεπτή μεμβράνη παρασκευάζεται κυρίως με ψεκασμό με μαγνήτρον, στην οποία το υλικό-στόχος είναι μια σημαντική βασική πρώτη ύλη στη διαδικασία επικάλυψης με ψεκασμό. Εξοπλισμένο με εξαιρετική και υπερηχητική τεχνολογία ψεκασμού πλάσματος, έχει υψηλή θερμοκρασία πηγής θερμότητας και ατμόσφαιρα αδρανούς αέρα. Η απόσταση ψεκασμού είναι μικρή. Τα σωματίδια πετούν στον πίδακα πλάσματος με υψηλή ταχύτητα, λιγότερο πιθανό να οξειδωθούν στο μέσο, ​​με πλεονεκτήματα για τον ψεκασμό εύκολα οξειδώσιμης σκόνης τιτανίου.

Υψηλό σημείο τήξης: το σημείο τήξης του τιτανίου είναι 1668 μοίρες, επομένως ο στόχος τιτανίου έχει εξαιρετική απόδοση σε υψηλή θερμοκρασία.

Καλή αντοχή στη διάβρωση: το τιτάνιο έχει καλή αντοχή στη διάβρωση και μπορεί να αντισταθεί στη διάβρωση οξέος, αλκαλίου και άλλων χημικών ουσιών, επομένως μπορεί να χρησιμοποιηθεί σε ηλεκτρολυτική επιμετάλλωση, ηλεκτρόλυση, επίστρωση κενού και άλλες βιομηχανίες.

Καλή σταθερότητα: το τιτάνιο είναι πιο σταθερό χημικά και μπορεί να διατηρήσει σταθερή απόδοση σε περιβάλλοντα υψηλής θερμοκρασίας, υψηλής πίεσης και αδρανούς αερίου, επομένως μπορεί να χρησιμοποιηθεί για την παρασκευή ορισμένων υλικών υπό υψηλή θερμοκρασία, υψηλή πίεση και αδρανές αέριο.

Καλή ηλεκτρική αγωγιμότητα: ο στόχος τιτανίου είναι καλός ηλεκτρικός αγωγός, επομένως μπορεί να χρησιμοποιηθεί για την προετοιμασία ηλεκτρονικών εξαρτημάτων, φωτοβολταϊκών στοιχείων, μικροηλεκτρονικών συσκευών κ.λπ. Εφαρμογή: Διαχωρισμός ημιαγωγών, υλικά επίστρωσης μεμβράνης, Επικάλυψη ηλεκτροδίων αποθήκευσης, επίστρωση διασκορπισμού, επίστρωση επιφάνειας, γυαλιά , ηλεκτρονικά, οπτοηλεκτρονική, τεχνολογία πληροφοριών, χημεία, ιατρική και αεροδιαστημική.

Δημοφιλείς Ετικέτες: στρογγυλός στόχος τιτανίου, Κίνα κατασκευαστές στρογγυλών στόχων τιτανίου, προμηθευτές, εργοστάσιο